阿石创（300706）2025年半年度管理层讨论与分析

证券之星消息，近期阿石创（300706）发布2025年半年度财务报告，报告中的管理层讨论与分析如下：

发展回顾：

一、报告期内公司从事的主要业务

    1、PVD行业简介

    物理气相沉积（PVD）为真空镀膜技术的一个分支路线，相较于传统的电镀、化学镀、热加工等工艺，具有以下优点：（1）成膜均匀，硬度高，耐极端使用环境；（2）颜色多样化，可在红黄蓝三原色基础之上任意调色；（3）材料适应范围广，尤其针对不导电材料；（4）环保无污染，无铬离子等重金属污染。

    PVD技术分为蒸镀法、溅镀法和离子镀法。三种方法各有优劣势：蒸镀速度快，溅镀法均匀性好，离子镀绕镀能力强。不同方法的选择主要取决于产品用途与应用场景。

    从应用角度来看，PVD镀膜作为物体表面处理技术，应用空间非常广泛，不同应用有不同的要求，例如半导体、平板光伏对镀膜材料织构要求较高，光学、防伪对膜层设计要求较高，电磁+传感对原材料的要求较高。

    PVD设备主要包括真空系统（主泵、罗茨泵、机械泵、维持泵）、镀膜系统（溅射源、蒸发源）、电源、辅助系统等。国内主要以广东、成都、兰州、上海、沈阳等传统国有真空设备厂商及其延伸厂商为主，但整体技术实力相较国际一线厂商如爱发科、应用材料(AKT）等仍有差距。

    2、PVD材料简介

    根据镀膜设备与使用场景的不同，可以按照外形尺寸将靶材分为蒸镀材料（蒸镀靶材）、平面靶材、旋转靶材等，蒸镀材料（蒸镀靶材）适用于蒸发镀膜，加热方式有电阻、感应、电子束等，平面靶材、旋转靶材适用于溅射镀膜，采用离子源轰击模式。

    PVD材料的生产可以分为粉末冶金、金属熔铸两类工艺，粉末冶金（含喷涂）适用于难熔金属、化合物、合金靶材，金属熔铸（含挤压）适用于普通易熔炼金属，常见的靶材性能指标有纯度、晶粒大小与取向（织构）、致密度、气体含量等。

    PVD材料的技术壁垒体现在设备端配合修正、工艺端制造、应用端理解等。

    （1）设备端：高精度的PVD设备，对靶材的一致性要求极高，所以后续替代原厂的靶材供应商，不仅要具备靶材制造能力，还需要设备微调能力，进而适应不同环境下的设备；

    （2）工艺端：PVD材料生产的核心技术可以分为纯度控制、金属成分与粉末设计、微观结构控制、表面设计、材料分析与评价等方面。从工艺路线来看，金属熔铸工艺难点主要在织构环节，即通过精密轧制与加工，获得晶粒均匀、晶向一致的微观结构；粉末工艺的难点在制粉环节颗粒均匀性，烧结环节温度曲线、气流控制、烧结气氛等；

    （3）应用端：PVD优秀的环保性、成膜性、多色彩，使得PVD的应用空间愈加广泛，靶材供应商需从战略角度拓展PVD的应用场景。

    从产业链角度来看，PVD行业的上游为高纯金属或者化合物原料，下游为各类应用制造场景，如面板、半导体等。过往PVD材料的主要市场集中在平板显示、半导体、光学、装饰等领域，近年来市场竞争激烈，拓展更为广阔的应用场景，是PVD材料企业的战略出发点。

    3、报告期内公司从事的主要业务

    PVD镀膜行业发展初期，PVD镀膜材料往往与镀膜设备配套且以国外厂商为主。受益于PVD镀膜材料的发展及应用推广及国产化替代机遇，行业企业增加技术研发投入，积极参与国际技术交流和市场竞争，现已在国内高端PVD镀膜材料市场占有一定的市场份额，逐步改变了高端PVD镀膜材料长期依赖进口的不利局面。作为少数国内企业已经掌握了高端PVD镀膜材料生产的关键技术，积累了较为丰富的产业经验，拥有了一定的市场知名度，获得了下游客户的广泛认可。

    二、核心竞争力分析

    公司深耕PVD镀膜材料领域二十余载，始终重视研发投入和技术创新，在突破了行业的技术壁垒后，公司在发展过程中也逐渐形成了自身的核心竞争力。

    1、对PVD镀膜设备、工艺端、材料端复合理解力

    在设备端，公司拥有专业研发团队，具备设备的自主设计制造能力，可以确保生产过程的稳定性和产品质量的一致性，降低对外部供应商的依赖，提高技术壁垒。同时具备对设备进行升级改造的能力，不仅可以对现有设备进行技术升级提高生产效率和产品质量，更可以根据新的应用领域需求，开发专用设备，拓展业务范围。

    在工艺端，掌握丰富的材料制备工艺技术，如靶材真空熔铸生产工艺与靶材合金成分设计与实现能力、纳米粉体制备到陶瓷靶材成型烧结全套工艺技术等专业的自动化生产线，确保产品的高纯度、高密度、均匀性和稳定性。公司还具备高纯金属的物理、化学提纯技术，残靶回收提纯技术，可实现多条产品线绿色循环制造，提高资源利用率，降低制造成本。

    在材料端，严格的质量控制体系和分析检测装备，具备超高纯金属测试，靶材成分测试，内部缺陷和织构分析等技术，保证产品质量稳定可靠。公司产品涵盖溅射靶材、蒸镀材料和镀膜配件等PVD镀膜材料，可广泛应用于光学光通信、平板显示、节能玻璃、半导体、光伏等行业。

    2、技术研发优势

    公司拥有经验丰富的技术管理团队和技术支持团队。核心技术人员和研发人员长期从事PVD镀膜领域的工作，具有深厚的专业知识和实践经验。公司自成立以来始终重视研发团队的建设，持续加大研发投入，先后设立了博士后科研工作站、福建省镀膜靶材企业工程技术研究中心、福建省企业技术中心等国家级、省级科研平台，打造了一支国内领先的技术研发团队。

    依托专业技术研发团队，公司掌握了八大核心技术：1)材料提纯技术，用于制造先进电子装置所使用的金属材料必须进行提纯，使其能显现出其固有性能；2)靶材成分与显微结构设计，通过成分设计与晶体结构调控能获得性能优异的功能材料；3)晶粒尺寸与取向控制技术，开发了具有自主知识产权的轧制和退火工艺，通过优化轧制与退火工艺来控制晶粒尺寸与取向；4)粉末加工与处理技术，通过粉末合成、粒径分布控制、改善粉末烧结行为等方面形成了独特的控制技术；5)陶瓷成型与致密化技术，通过真空烧结、气氛烧结等工艺，确保获得优质靶材；6)靶材绑定与复合技术，自主开发各种绑定技术，形成自己独特的工艺，以满足各类不同产品的需求；7)表面设计与处理技术，通过独有的表面控制技术获得材料新的功能化性能；8)材料分析与评价技术，我们拥有GDMS、ICP-OES、XRF在内的国际一流的高纯材料杂质成分分析的仪器，可实现ppb级痕量杂质的检测，保证了高纯金属材料的开发和产品质量管控。

    3、提供一站式解决方案能力的优势

    公司建立了PVD薄膜实验室，掌握蒸镀与磁控溅射镀膜技术，薄膜方案设计，薄膜性能分析与评价，可紧密贴近下游市场需求，为客户提供多样化的PVD镀膜材料、膜系设计及工艺开发、制备技术实现等一站式解决方案，从镀膜材料到镀膜工艺系统性的进行新产品开发和应用推广，从产品咨询、技术交流、材料研发、检验检测及售后服务等全链条全品类的精准服务，有利于降低客户采购成本，提升客户的忠诚度和满意度。

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