英杰电气：电源并非光刻机研发最核心、最具挑战性的技术瓶颈

证券之星消息，英杰电气(300820)05月27日在投资者关系平台上答复投资者关心的问题。

投资者：董秘你好，目前国内DUV光刻机已经在攻关当中，贵司之前的半导体电梯主要和中微合作在刻蚀机方面，我想请问在光刻机方面贵司电源是否有技术储备或者已经在进行技术攻关？
英杰电气董秘：您好，据我们了解，光刻机核心技术难点集中于光学系统、精密机械与运动控制等方面，相比之下，电源并非光刻机研发最核心、最具挑战性的技术瓶颈。公司当前研发的半导体行业的相关电源，主要应用在半导体芯片的刻蚀、薄膜沉积、等离子注入、清洗、去胶这些工序环节以及半导体材料制造设备上，谢谢您的关注。

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