黄仁勋：中国到2030年就能做出先进光刻系统

观点网讯：9月15日，英伟达CEO黄仁勋在All-In峰会上判断，中国到2030年就能做出自己的先进光刻系统。

ASML是当前唯一能量产EUV光刻机的公司，欧美限制国内芯片产业也主要依靠限制ASML供应。

黄仁勋还表示，一旦技术成熟，中国有很强的大规模生产能力，国产设备进入本土晶圆厂只是时间问题。

这一判断比蔡司半导体负责人Frank Rohmund的观点更乐观。

Frank Rohmund最近称，中国要做出国产EUV光刻机，可能还需要约15年。

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