中微公司获得发明专利授权：“等离子体刻蚀装置及其工作方法”

证券之星消息，根据企查查数据显示中微公司（688012）新获得一项发明专利授权，专利名为“等离子体刻蚀装置及其工作方法”，专利申请号为CN201911339775.0，授权日为2026年11月13日。

专利摘要：本发明涉及一种等离子体刻蚀装置及其工作方法。等离子体刻蚀装置包括反应腔、上电极组件、冷却器件、第一驱动装置及加热器件；反应腔内具有放置待处理基片的基座；上电极组件位于反应腔顶部，与基座相对设置。冷却器件设置于上电极组件上；第一驱动装置与冷却器件连接，用于驱动冷却器件离开或接触上电极组件；加热器件设置于上电极组件上，用于对上电极组件进行加热。

今年以来中微公司新获得专利授权149个，与去年同期持平。结合公司2026年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了13.1亿元，同比增17.31%。

通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了31家企业，参与招投标项目97次；财产线索方面有商标信息132条，专利信息1781条，著作权信息13条；此外企业还拥有行政许可89个。

数据来源：企查查

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