恒运昌：7月1日接受机构调研，中信证券参与

证券之星消息，2026年7月6日恒运昌（688785）发布公告称公司于2026年7月1日接受机构调研，中信证券参与。

具体内容如下：
　　公司于2026年6月24日协办“沪市ETF财富管理基地行——走进恒运昌”活动。投资者参观了公司，管理层介绍了公司的基本情况。问：请公司目前的在手订单及客户拓展情况如何？
答：截至公司2025年年度报告披露日，公司持有尚未交付的在手订单共约 1.57 亿元。公司将充分发挥研发和技术优势，结合市场发展前景和客户需求，不断进行新产品的研发设计，结合公司丰富的技术和生产经验，积极响应拓荆科技、中微公司、北方华创、微导纳米、北京屹唐等行业头部半导体设备商需求，加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性能更优、可靠性更高的产品，推进公司长期稳定发展。同时，公司还将积极推动主营业务产品向光伏、显示面板、精密光学等领域的拓展，不断提升公司产品性能与质量，并拓宽公司产品品类，助力公司长期稳定发展。

问：请介绍一下历代等离子体射频电源系统及其他新产品的研发进展
答：等离子体射频电源系统作为薄膜沉积设备、刻蚀设备、清洗去胶设备等半导体设备的核心零部件，技术要求极高，包括在纳米尺寸级别上精准控制等离子体的刻蚀过程、在纳秒时间级别上和复杂环境中精准且稳定地控制等离子体的变化。技术要求极高主要由于其直接关系到薄膜沉积、刻蚀、清洗等环节中等离子体的浓度、均匀性和稳定性等，进而影响晶圆制造工艺的能力、良率和效率。历经十年，公司先后推出 CSL、Bestda、spen/Basalt 三代产品系列。公司第一代产品CSL系列可支持工业级制程，主要用于光伏电池片薄膜沉积、显示面板镀膜、精密光学镀膜等一般工业领域；公司第二代产品Bestda系列可支撑成熟制程，主要面向半导体领域；第三代产品spen/Basalt系列可支撑先进制程，主要面向半导体领域。
截至2025年年底，公司第四代产品 Cedar 系列等离子体射频电源系统处于验证状态，该产品将射频电源和匹配器整合为一体化平台，配备多个中心阻抗应用、可实现快速数据及大数据采集等功能，可支撑更先进制程。截至2025年年底，公司对MFC MEMS传感器的研发已处于完成初样流片及搭载测试平台阶段。结合公司未来发展规划，在产品布局方面，公司将采取双轮驱动发展策略，通过内生研发，持续优化现有产品，提升性能与质量，并拓宽产品品类；同时，公司未来将借助外部并购等战略举措，以进一步增强等离子体工艺核心零部件的供应能力，为客户提供一站式的产品和服务，致力于成为围绕等离子体工艺提供核心零部件整体解决方案的平台型公司。

问：请介绍一下等离子体射频电源系统的国内同行情况与公司的竞争优势
答：中国大陆半导体行业等离子体射频电源系统的市场仍呈现海外巨头高度垄断的竞争格局。根据弗若斯特沙利文统计，2024年，中国大陆半导体领域等离子体射频电源系统的国产化率不足12%；2024年，在中国大陆半导体行业国产等离子体射频电源系统厂商中，恒运昌的市场份额位列第一。国内同行企业还有成都英杰晨晖科技有限公司、北京华丞电子股份有限公司等。
公司的竞争优势如下
（1）技术优势经过十多年的持续正向研发、不断创新和积累，公司建立了“基石技术+产品化支撑技术”的技术体系，一方面从测量、控制及架构三方面构建的底层通用的 3 大基石技术，并基于基石技术，结合半导体设备中应用，特别是先进制程中更快速、更精准、更稳定的应用诉求和实现难点，发展出 8 大产品化支撑技术，实现了突破高端等离子体射频电源系统的先进设计、测量和控制等难题，掌握了信号采样及处理、相位同步锁定、快速调频、脉冲控制等等离子体射频电源系统运行中的关键技术。截至2025年年底，公司已授权专利共 296 项，包括发明专利 123 项，实用新型专利 72项，外观设计专利 101 项。截至 2025 年年底，公司已累计申请490 项专利，其中发明专利 262 项，占比 53.47%。
（2）产品优势半导体设备及零部件行业具有“精确复制”的要求，等离子体射频电源系统的量产必须确保高度稳定和可重复的生产工艺，且需经过精密的校准和严格的测试流程，以确保性能的一致性和长期稳定性。在此严苛要求下，公司已具备成熟的规模化量产能力，并成为薄膜沉积、刻蚀环节国内头部设备商的战略级供应商。
（3）团队优势截至2025年年底，公司员工总数为405人。研发人员数量为158人，其中学历本科及以上研发人员占研发人员总数的84.81%。同时，公司汇聚了一支在等离子体射频电源系统及半导体核心零部件行业拥有二十年以上从业经验的团队。团队成员不仅在技术研发方面拥有卓越的能力和敏锐的洞察力，对半导体行业具有深刻理解和具有丰富的实践经验。

问：请具体介绍一下公司引进产品种类
答：公司基于等离子体发生条件和反应腔真空环境的实际需求，引进用于获得和维持真空环境的真空泵、用于流体精确控制的质量流量计以及用于真空镀膜装备的等离子体直流电源等核心零部件。公司引进产品和自研产品一同协作，共同为下游客户提供等离子体工艺解决方案。
（1）真空泵在半导体、工业镀膜等工艺中，将硅片或其他材料放入反应腔室后，需要使反应腔获得真空环境。真空泵是反应腔获取真空环境的核心零部件，用于在反应腔中产生和维持真空环境。（2）质量流量计在反应腔获取真空环境后，需要向反应腔室通入工艺气体，工艺气体被等离子体射频电源电离产生等离子体。此时需要通过质量流量计精确计量和输送。质量流量计是反应腔供气系统的核心零部件，用于对气体等进行质量流量的测量和控制。（3）等离子体直流电源公司引进的等离子体直流电源主要用于真空镀膜装备，即在反应腔内使用等离子体直流电源对靶材施加电压，使气体离子化，产生等离子体。这些离子在电场的作用下加速并轰击靶材，溅射出原子或分子，最终沉积在基材上，完成镀膜。5. 请介绍一下公司的技术服务业务
公司技术服务主要系为晶圆厂提供等离子体射频电源系统原位替换及维修服务。等离子体射频电源系统在晶圆厂使用过程中会出现老化、故障等问题，需要及时进行更换或维修。国内主要晶圆厂被列入实体清单后，无法继续向原海外设备供应商采购备件或申请维修服务，公司为此承接了进口等离子体射频电源系统的原位替换及维修业务。6. 请介绍一下公司目前的产能情况
2025年公司产能利用率达98.51%。公司将通过多个措施提升产能，包括积极推进子公司恒运昌真空技术（沈阳）有限公司的建设与正式运营，助力其实现从试产到量产的跨越；同时推进深圳产能建设，加速产能落地；公司也将逐步推进半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地项目的建设，这些都将有助于后续产能的释放，为公司产能持续提升奠定基础。

问：请介绍一下公司未来的发展规划
答：（1）持续研发与创新，保持和提高技术先进性，不断提升工艺水平和产品性能。公司将始终以客户需求作为技术研发导向，密切追踪最新的技术及发展趋势，持续增加研发投入，不断完善研发管理机制和创新激励机制。公司将不断丰富公司产品和技术储备，持续推进产品的更新迭代，加快推动更先进工艺制程等离子体射频电源系统的产业化应用，为客户提供性能更优、可靠性更高的产品。在产品布局方面，公司将采取双轮驱动策略。通过内生研发和择机对外收购的方式，持续优化现有产品，提升性能与质量，并拓宽产品品类。
（2）充分借力资本市场，重点加强先进产品产能建设。公司将在现有生产模式的基础上，在沈阳建设半导体射频电源系统产业化中心，在深圳扩建半导体与真空装备核心零部件智能化生产运营基地，引进性能更优、智能化水平更高、更先进的生产制造设备、测试设备及仓储系统，并结合生产车间及数据管理系统软件，实现生产制造、经营、管理和决策的智能优化。
（3）以客户为中心，提升技术服务，加强多元化市场开拓。公司始终以客户为中心，密切关注客户需求，强化与客户设计研发的沟通合作，持续收集下游行业市场与技术动态信息；同时，进一步加强公司技术销售与技术服务，重点加大培养既懂专业技术又有销售服务能力的技术精英，确保公司在产品技术路线交流、销售、服务、信息反馈等环节为客户提供专业化的技术支持服务和解决方案。

恒运昌（688785）主营业务：等离子体射频电源系统、等离子体激发装置、等离子体直流电源、各种配件的研发、生产、销售及技术服务,并引进真空获得和流体控制等相关的核心零部件,围绕等离子体工艺提供核心零部件整体解决方案。

恒运昌2026年一季报显示，一季度公司主营收入1.24亿元，同比下降12.08%；归母净利润1758.28万元，同比下降49.81%；扣非净利润1693.05万元，同比下降44.31%；负债率5.66%，财务费用-42.29万元，毛利率52.14%。

该股最近90天内共有1家机构给出评级，增持评级1家。

融资融券数据显示该股近3个月融资净流入9125.98万，融资余额增加；融券净流入0.0，融券余额增加。

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