芯动联科获得实用新型专利授权：“用于深槽刻蚀工艺的散热结构”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示芯动联科（688582）新获得一项实用新型专利授权，专利名为“用于深槽刻蚀工艺的散热结构”，专利申请号为CN202422370848.5，授权日为2025年8月19日。

专利摘要：本实用新型公开一种用于深槽刻蚀工艺的散热结构，属于芯片制造的技术领域，具体是当MEMS结构层被隔离沟隔离为外围结构和悬空的MEMS功能结构后，需要继续刻蚀MEMS功能结构以形成间隙用来将MEMS功能结构隔离为能够活动的各功能单元，此刻蚀过程的热量无法散热，利用刻蚀的微负载效应，通过在隔离沟内设置散热结构，散热结构与MEMS功能结构之间形成大深宽比的深槽，保留MEMS功能结构向外围区锚点散热的通道，使MEMS功能结构刻蚀时产生的热量能通过外围区锚点散热，确保刻蚀工艺正常完成，有效解决了悬空结构在刻蚀过程中的散热问题，提升工艺能力，刻蚀形貌符合设计需求。

今年以来芯动联科新获得专利授权7个，较去年同期增加了40%。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了5810.51万元，同比增8.17%。

通过天眼查大数据分析，安徽芯动联科微系统股份有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目12次；财产线索方面有商标信息25条，专利信息73条；此外企业还拥有行政许可3个。

数据来源：天眼查APP

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