苏大维格获得发明专利授权：“一种导电膜的制作方法及导电膜”

证券之星消息，根据天眼查APP数据显示苏大维格（300331）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种导电膜的制作方法及导电膜”，专利申请号为CN201910045074.X，授权日为2025年4月22日。

专利摘要：本发明公开一种导电膜的制作方法，该导电膜包括基材、结构层和导电层，该方法包括：在结构层形成深度相同的多个凹槽；以及在多个凹槽内形成具有第一图形的第一导电层；在多个凹槽内形成具有第二图形的绝缘层；在绝缘层上形成具有第三图形的第二导电层；其中，第一图形与第三图形不相同，第三图形至少与第二图形的部分图形相同。本发明还公开一种导电膜，采用上述方法制作。通过将多个图形不相同的导电层在同一多个凹槽中制作，使各导电层的对位精度高，从而保证导电膜的使用效果。

今年以来苏大维格新获得专利授权20个，较去年同期增加了300%。结合公司2024年中报财务数据，2024上半年公司在研发方面投入了6693.39万元，同比增11.68%。

数据来源：天眼查APP

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