ASML与蔡司论文称下一代芯片制造设备约10年内问世

观点网讯：近日，ASML及其光学合作伙伴Carl Zeiss的工程师在一篇经同行评审的论文中表示，作为ASML最先进芯片制造设备的继任者，新一代被命名为“Hyper NA”的设备预计将在约10年内问世。

论文指出，该设备将在大量复用两家公司现有技术的同时，实现更精细的电路图案化，尽管仍面临诸多挑战。

目前ASML已开始研发该设备，但尚未承诺投入生产。

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