苏大维格(300331.SZ)：积极研发高制程掩膜的相关光刻技术

来源：格隆汇

2025-06-25 14:37:29

（原标题：苏大维格(300331.SZ)：积极研发高制程掩膜的相关光刻技术）

格隆汇6月25日丨苏大维格(300331.SZ)在互动平台表示，在光刻领域，公司现阶段主要拓展直写光刻、纳米压印光刻和投影扫描光刻技术和产品在光电子、光通信和泛半导体等领域的应用，并积极研发高制程掩膜的相关光刻技术。

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